激光等离子体化学气相沉积掺氢非晶硅薄膜 —— 一种新的LCVD方法 上传者：qq_65659 2021-04-08 13:54:53上传 PDF文件 1.79MB 热度 46次 采用一种新方法,用脉冲CO2激光器获得了掺氢非晶硅薄膜。描述了我们的实验。给出了生长速率与有关实验参数的关系和合适的工作条件;测量和分析了这种薄膜的某些性质。 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
