1. 首页
  2. 编程语言
  3. 其他
  4. 等离子体增强化学气相沉积金刚石薄膜中基元过程的研究

等离子体增强化学气相沉积金刚石薄膜中基元过程的研究

上传者: 2020-04-01 03:52:43上传 PDF文件 317.63KB 热度 16次
等离子体增强化学气相沉积金刚石薄膜中基元过程的研究,汤凯,信裕,利用Gaussian03软件,在CCSD/6-311++G(d,p)水平上计算了等离子增强化学气相沉积金刚石薄膜中,以CH4/H2及引入卤素(F、Cl)为气源时,其气体�
用户评论