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微晶硅沉积的射频等离子体辉光发射谱

上传者: 2020-07-18 03:57:11上传 PDF文件 446.03KB 热度 13次
微晶硅沉积的射频等离子体辉光发射谱,朱锋,赵颖,采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术在高沉积功率、低衬底温度的条件下沉积微晶硅薄膜材料。光发射谱(OES)测量技术�
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