含Si纳米微晶的旋涂PMMA薄膜的制备及发光性能

我们报告了在甲苯中通过脉冲激光烧蚀合成Si纳米微晶,然后制备了具有PMMA的复合膜及其发光研究。 透射电子显微镜图像显示,硅纳米晶体的尺寸从约4 nm到小于1 nm不等。 根据量子限制效应,当激发波长在300至440 nm之间变化时,复合膜表现出强烈的发射光谱峰,其光谱峰值连续从387 nm移至506 nm。 它们的时间分辨光致发光光谱显示出多指数衰减,这意味着光发射也可能与某些表面状态有关。