不同退火过程对紫外HfO

采用直升式和阶梯式加热法对电子束热蒸发镀制出的HfO2/SiO2,Y2O3/SiO2多层膜进行了400 °C的退火处理, 发现采用阶梯式加热法退火后多层膜在190 ~300 nm范围内的峰值反射率均得到提高, 说明此种后处理方法可能会改善膜层在紫外波段的光学性能。再对HfO2,Y2O3的单层膜进行相应的退火处理, 发现退火后HfO2膜层的物理厚度减小从而发生蓝移现象; 直升式退火使Y2O3膜层的折射率变小引起蓝移, 阶梯式退火使得Y2O3膜层的物理厚度减小引起蓝移。对退火前后样品的微结构进行X射线衍射(XRD)法测量发现, 退火可以使材料进行晶化, 并且采用直升式加热法后材料的结晶度更大, 从而