通信与网络中的智能像素集成技术硅V形槽制备技术

为了实现光纤和SEED智能像素的输出耦合,需将多根光纤按照和SEED列阵相同的间距固定为一维光纤列阵后再 和VCSEL的出光窗口进行对准。光纤定位最为简单易行的方法是把光纤放入和光纤直径相匹配的一列V形槽中,利 用V形槽的设计精度对光纤进行定位。由于各向异性腐蚀液对单晶硅不同晶向的腐蚀速率差别很大,所以,利用碱 性溶液对硅片的各向异性腐蚀就可以在硅片上形成满足光纤定位要求的大尺寸V形槽。硅的腐蚀掩膜一般选取 SiO2和Si3N4,KOH溶液对SiO2有一定的腐蚀速率,但是对Si3N4基本上不腐蚀。 选用一定比例的KOH溶液对Si片进行V形槽腐蚀实验。KOH溶液对硅的腐蚀速率除了和晶向有关