基础电子中的基于PC的IC工具降低MEMS设计门槛

鉴于MEMS工艺源自光刻微电子工艺,所以人们很自然会考虑用IC设计工具来创建MEMS器件的掩膜。然而,IC设计与MEMS设计之间存在着根本的区别,从版图特性、验证或仿真类型,到最重要的构造问题。 尽管针对MEMS设计的专用工具套件已经面市,但它们的定价往往超出专注这一增长领域的许多小公司的承受范围。作为一种替代解决方案,低成本的、基于PC的IC工具开始被用于设计微机电系统及IC。 不过,这类软件的使用者必须认识到MEMS设计的特殊复杂性,并*估这些软件是否能支持他们的产品制造和生产周期。对于只需要2层掩膜的简单微流通道 (microfluidic channels),这些软件也许正