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基底温度对一步脉冲直流磁控溅射沉积的Cu2ZnSnS4薄膜结构及性能的影响

上传者: 2020-07-21 19:52:22上传 PDF文件 1.32MB 热度 13次
基底温度对一步脉冲直流磁控溅射沉积的Cu2ZnSnS4薄膜结构及性能的影响,刘超前,文斌,磁控溅射单一Cu2ZnSnS4 (CZTS)陶瓷靶材是一种非常具有应用前景的CZTS薄膜制备方法。本文基于自制CZTS陶瓷靶材,利用直流脉冲磁控溅射技术
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