具有深高宽比的SiO2/GaAs纳米图形衬底的制作工艺 上传者：thmiao 2020-07-18 05:35:06上传 PDF文件 229.41KB 热度 14次 具有深高宽比的SiO2/GaAs纳米图形衬底的制作工艺，李玉斌，王琦，本文采用电子束光刻技术及反应离子刻蚀技术在GaAs（100）衬底上制作了深宽比>1的（深宽比=槽深/槽宽）周期性的SiO2纳米槽。这种纳米图 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 thmiao 资源：439 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
