掺硼非晶硅薄膜性能研究 上传者：^_浮树林沉 2020-07-17 11:00:10上传 PDF文件 298.72KB 热度 50次 掺硼非晶硅薄膜性能研究，朱魁鹏，吴志明，用等离子体增强化学气相沉积法制备了掺硼氢化非晶硅薄膜材料,对薄膜的电阻率和均匀性进行了研究.结果表明,掺硼a-Si:H薄膜的电阻率随 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
