掺硼非晶硅薄膜的性能研究 上传者：azael_hc 2020-04-01 03:53:11上传 PDF文件 1.08MB 热度 58次 掺硼非晶硅薄膜的性能研究，朱魁鹏，吴志明，摘要:用等离子体增强化学气相沉积法制备了掺硼氢化非晶硅薄膜材料,对薄膜的电阻率和均匀性进行了研究.结果表明,掺硼a-Si:H薄膜的电� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
