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论文研究晶圆表面形貌对铜电镀工艺的影响和数学预测 .pdf

上传者: 2020-05-27 13:06:47上传 PDF文件 911.09KB 热度 23次
晶圆表面形貌对铜电镀工艺的影响和数学预测,白英英,张守龙,铜电镀(ECP)技术是半导体铜互连工艺中相当重要的一环。在电解槽中各种添加剂的作用下,铜能以一种
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