光热退火的光量子效应对富硅氮化硅薄膜特性的影响 上传者：jalena 2020-05-14 06:14:42上传 PDF文件 784.72KB 热度 69次 光热退火的光量子效应对富硅氮化硅薄膜特性的影响，陈小波，杨培志，采用双极脉冲和射频磁控共溅射沉积法，在单晶硅衬底和石英衬底上制备富硅SiNx薄膜.为了比较，在氮气氛围中，于950-1100℃温度下分别� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
