Structure and Electrical Properties of Nd/NiCodoped Bismuth Titanate Thin Films 上传者：hello36208dj 2020-04-26 09:59:36上传 PDF文件 263.84KB 热度 29次 化学溶液沉积法制备Nd/Ni共掺钛酸铋薄膜及电学特性，刘为方，姜鹏，采用化学溶液沉积法在Pt/TiO2/SiO2/Si衬底上制备了(Bi3.15Nd0.85)(NixTi1-x)3O12(BNNT)薄膜，研究了Ni掺杂量对薄膜结构和电性能的影响。Ni掺杂增� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 hello36208dj 资源：444 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
