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退火温度对Mg掺杂GaN影响研究

上传者: 2020-02-18 20:02:37上传 PDF文件 484.16KB 热度 38次
退火温度对Mg掺杂GaN影响研究,陈圣昌,李洋,利用金属有机化学气相沉积法在蓝宝石(001)衬底上采用高温AlN缓冲层外延生长了Mg掺杂p-GaN。研究了750℃到850℃不同退火温度对GaN薄膜的�
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