论文研究化学机械研磨对硅片表面Haze值的影响 .pdf 上传者：宛陵秋 2020-01-10 12:11:23上传 PDF文件 359.34KB 热度 15次 化学机械研磨对硅片表面Haze值的影响，林佳佳，，化学机械研磨是当今唯一能够提供全局平坦化的技术，其抛光机理的研究是当前的热点。硅片表面Haze值是描述硅片表面粗糙度的一个重�� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 宛陵秋 资源：19545 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
