论文研究化学机械研磨对硅片表面Haze值的影响 .pdf 上传者：宛陵秋 2020-01-10 12:11:23上传 PDF文件 359.34KB 热度 45次 化学机械研磨对硅片表面Haze值的影响，林佳佳，，化学机械研磨是当今唯一能够提供全局平坦化的技术，其抛光机理的研究是当前的热点。硅片表面Haze值是描述硅片表面粗糙度的一个重�� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
