激光化学气相沉积法制备TiO2薄膜

利用激光化学气相沉积(LCVD)方法,以钛金属有机化合物为前驱体,以O2为反应气体,在激光功率PL为0~200 W、基板预热温度为400~700°C的条件下,制备出了金红石型TiO2薄膜和金红石型与锐钛矿型混合TiO2薄膜。研究表明,激光功率和基板预热温度对所沉积的TiO2薄膜的物相组成、截面组织,表面形貌和薄膜生长速度均有着显著的影响。