论文研究SJ制造工艺中光刻对准问题的改进方法 .pdf 上传者：宛陵秋 2019-09-14 16:32:31上传 PDF文件 389.61KB 热度 64次 SJ制造工艺中光刻对准问题的改进方法，俞乃霖，，本文基于SuperJunction(SJ)结构高电压功率半导体，阐述了如何利用光刻工艺形成SJ的特殊结构，分析了其特殊器件结构造成的光刻工艺难点� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
