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论文研究SJ制造工艺中光刻对准问题的改进方法 .pdf

上传者: 2019-09-14 16:32:31上传 PDF文件 389.61KB 热度 30次
SJ制造工艺中光刻对准问题的改进方法,俞乃霖,,本文基于SuperJunction(SJ)结构高电压功率半导体,阐述了如何利用光刻工艺形成SJ的特殊结构,分析了其特殊器件结构造成的光刻工艺难点�
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