论文研究 0.13μm显影工艺中喷嘴选择和程式改进的研究 .pdf
0.13μm显影工艺中喷嘴选择和程式改进的研究,吴敏,,随着集成电路工艺关键尺寸的不断递减,制造工艺中关键的光刻技术面临巨大的挑战。这不仅是技术节点跨越的难题,更是需要新工艺平
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