溅射离子源的初步调试(1993年) 上传者：ginger_zx 2024-07-09 00:41:40上传 PDF文件 134.32KB 热度 33次 本文介绍一种可适用于金属表面改性用的溅射离子源。采用双层热屏蔽套，在相同的引出总束流前提下，可相应减小灯丝加热功率。初步调试结果，引出的靶上总束流：氮离子达10mA；氩离子1mA；铜离子达10mA；钛离子30uA。 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
