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溅射离子源的初步调试(1993年)

上传者: 2024-07-09 00:41:40上传 PDF文件 134.32KB 热度 8次
本文介绍一种可适用于金属表面改性用的溅射离子源。采用双层热屏蔽套,在相同的引出总束流前提下,可相应减小灯丝加热功率。初步调试结果,引出的靶上总束流:氮离子达10mA;氩离子1mA;铜离子达10mA;钛离子30uA。
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