离子源在镀膜设备中的应用及分类资料 上传者：militia_54552 2023-03-18 17:09:40上传 XLSX文件 10.55KB 热度 9次 镀膜设备是一种将涂层材料在受体表面上制备成薄膜的技术。离子源是其中一个不可缺少的组成部分，它可以在镀膜过程中提供离子束辐射以增加反应速度和改变成膜行为。本文根据离子源的特性对其进行分类，并探讨了不同离子源在镀膜设备中的应用。涉及的离子源包括离子阱、电子轰击离子源、电弧离子源等。此外，本文还对镀膜设备的研发进行了简要介绍，探讨了不同离子源的优缺点。 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 militia_54552 资源：1 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
