射频磁控沉积ZrO2-8%(wt)Y2O3薄膜的XPS分析(1994年) 上传者：weiduo 2024-07-06 10:43:33上传 PDF文件 248.38KB 热度 52次 对采用不同基体温度进行射频磁控溅射制备的ZrO2-8%（重量百分比）掺杂的Y2O3薄膜表面进行了详尽的XPS全扫描和窄扫描谱测量。实验结果显示，随着沉积基体温度的变化，薄膜表面的化学组成出现了差异；此外，观察到薄膜表面存在显著的碳污染问题。Zr、Y、O元素的电子结合能值（化学位移）与材料本身以及沉积基体温度均有关联。 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
