射频磁控沉积ZrO2-8%(wt)Y2O3薄膜的XPS分析(1994年) 上传者：weiduo 2024-07-06 10:43:33上传 PDF文件 248.38KB 热度 6次 对采用不同基体温度进行射频磁控溅射制备的ZrO2-8%（重量百分比）掺杂的Y2O3薄膜表面进行了详尽的XPS全扫描和窄扫描谱测量。实验结果显示，随着沉积基体温度的变化，薄膜表面的化学组成出现了差异；此外，观察到薄膜表面存在显著的碳污染问题。Zr、Y、O元素的电子结合能值（化学位移）与材料本身以及沉积基体温度均有关联。 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 weiduo 资源：474 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
