热处理对电子束蒸发TiO

使用倾角电子束蒸发技术制备了TiO2雕塑薄膜, 通过对雕塑薄膜在不同退火温度和退火时间下进行热处理, 发现热处理工艺可以优化薄膜的双折射特性和相位延迟性能。实验结果表明, TiO2雕塑薄膜的最佳退火条件为500 °C下处理4 h, 其双折射值达0.115左右, 远高于未处理时的最大双折射值(0.06)。椭偏仪测试结果表明, 最优条件下热处理后的薄膜, 在550 nm处相位延迟量达90°, 可以作为该波长处的λ/4波片使用。因此, 热退火是改善雕塑薄膜双折射性能的一种简单实用的方法。