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电子束蒸发工艺制备HfO2薄膜的非均质性

上传者: 2020-05-27 12:17:49上传 PDF文件 419.67KB 热度 20次
电子束蒸发工艺制备HfO2薄膜的非均质性,鲍刚华,程鑫彬,采用电子束蒸发(EB)工艺在不同的沉积温度和氧分压参数下制备了HfO2单层膜。光谱测试表明沉积工艺是影响HfO2薄膜非均质性的重要因�
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