多晶硅薄膜的Ar 上传者：明儿 2021-04-18 01:23:05上传 PDF文件 1.33MB 热度 42次 利用连续Ar+激光使绝缘层上的多晶硅薄膜再结晶.实验结果表明多晶硅晶粒尺寸显著增大,电学性能大为改善,并且与常规的集成电路工艺相容. 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
