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掺杂氧的Ge Sb Te相变薄膜的光学性质

上传者: 2021-04-17 22:54:12上传 PDF文件 126.05KB 热度 11次
研究了氧掺入Ge-Sb-Te射频溅射相变薄膜在400 nm~800 nm区域的光学常数(n,κ)和反射、透射光谱,发现适当的氧掺入能大大增加退火前后反射率对比度,因此可通过氧掺入改良Ge-Sb-Te相变材料的光存储性能.
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