浸没式光刻技术的研究进展 上传者：xue71184 2021-04-04 10:54:21上传 PDF文件 665.15KB 热度 43次 浸没式光刻技术是将某种液体充满投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片之间来增加系统的数值孔径, 可以将193 nm光刻延伸到45 nm节点以下。阐述了浸没式光刻技术的原理, 讨论了液体浸没带来的问题, 最后介绍了浸没式光刻机的研发进展。 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
