193 nm和308 nm准分子激光对聚合物刻蚀特性的比较 上传者：rimade 2021-02-24 21:53:26上传 PDF文件 133.03KB 热度 32次 描述了两种典型准分子激光(XeCl:308nm,30 ns和ArF:193 nm,17 ns)对三种常用聚合物PC,PI和PMMA的刻蚀实验研究.着重讨论准分子激光对聚合物的刻蚀机制,并比较了这两种激光对三种聚合物的刻蚀性能. 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
