钬激光器用高反膜的制备及其工艺研究
采用红外石英作为基底材料,利用SiO2/ZrO2膜系制备2100 nm波段钬激光器0°高反膜。提出一套完整的优化工艺,解决了薄膜的材料(膜料和基底)本身的水吸收,克服了薄膜表面光洁底差、散射吸收损耗大、容易破裂等问题,镀制出的薄膜在激光使用波长透射率小于0.1%,粗糙度小于1 nm,并且具有长期稳定性好,可靠性高等特点。
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