碳污染清洗工艺对极紫外光刻光学元件反射率的影响

极紫外光刻系统中的碳污染会降低多层膜反射率,在保证光学元件性能的前提下,如何选择碳清洗工艺是一项重要课题。通过对不同清洗工艺的原理分析,揭示了不同工艺对多层膜反射率的影响主要体现在膜层氧化、刻蚀及表面粗糙度劣化等方面。基于时域有限差分方法及总积分散射理论,研究了不同影响因素与多层膜反射率的关系。结果表明,膜层氧化及表面粗糙度劣化是导致多层膜反射率下降的主要因素,而刻蚀的影响相对较小。基于以上分析结果,射频氢等离子体及原子氢清洗技术,在去除光学元件表面沉积碳的同时,不会显著降低光学元件性能,可优先考虑采用。