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元器件应用中的高精度电阻、电容形成技术

上传者: 2020-12-13 15:52:00上传 PDF文件 116.8KB 热度 13次
吴晓鸫 徐 政 何 磊(中国电子科技集团公司第58研究所,江苏 无锡 214035)摘 要:本文介绍了几种集成电路物工艺中高精度电阻和电容的制作方法。关键词:掺杂;扩散;注入;溅射中图分类号:TN305.2 文献标识码:A1 前言在集成电路的工艺中,为了提高器件性能,提高集成度,电阻和电容也集成在器件之中。随着线宽不断缩小,对电阻和电容的精度要求也越来越高。本篇介绍了几种制作高精度电阻和电容的制作工艺。2 高精度电阻的制作2.1 掺杂法集成电路中用掺杂法制作电阻,一般采用扩散电阻法和离子注入法。2.1.1 扩散电阻法扩散电阻法工艺简单,但精度较低,寄生效应大,面积较大。扩散电阻法常用于双极电路
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