TMAH单晶硅腐蚀特性研究

邓俊泳1,冯勇建2(1.厦门大学机电工程系,福建 厦门 361005;2.厦门大学萨本栋微机电研究中心,福建 厦门 361005)摘要:TMAH是一种具有优良的腐蚀性能的各向民性腐蚀剂,选择性好,无毒且不污染环境,最重要的是TMAH与CMOS工艺相兼容,符合SOC的发展趋势。TMAH正逐渐替代KOH和其他腐蚀液,成为实现MEMS工艺中微三维结构的主要腐蚀剂。本文着重介绍了TMAH的特性、工艺条件及应用。 关键词:四甲基氢氧化氨;各向异性腐蚀;微机电系统中图分类号:TN405 文献标识码;A文章编号:1671-4776(2003)12-0032-031引言MEMS是一个多学科、多领域交叉的新兴学