四氯化硅氢气还原法外延原理 上传者:hp66450 2020-12-13 04:30:11上传 PDF文件 77.3KB 热度 15次 §2.2.1 四氯化硅的氢气还原法外延生长过程 1 化学原理 1.1 四氯化硅的氢气还原机理 1.1.1 为吸热反应 1.1.2 伴有有害副反应 1.1.3 整个反应过程分两步进行 1.2 反应步骤分析 1.2.1 四氯化硅质量转移到生长层表面 1.2.2 四氯化硅在生长层表面被吸附 1.2.3 在生长层表面上四氯化硅与氢气反应 1.2.4 副产物的排除 1.2.5 硅原子在生长层表面的加接 2 {111}面硅外延生长的结晶学原理 2.1 晶核的形成 2.1.1 结晶学核化理论 2.1.2 共价键理论 2.2 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 hp66450 资源:449 粉丝:0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台,下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容!联系邮箱:server@dude6.com