电子测量中的KLA Tencor近日宣称推出Archer 100光覆盖测量系统

全球覆盖测量(overlay metrology)技术领先厂商KLA-Tencor近日宣称推出一款45nm工具——Archer 100光覆盖测量系统,设计用于显著增强浸没和未来双成型(patterning)蚀刻技术的精确度和生产率。Archer平台经过广泛的重新设计,提升精确度超过30%,系统使用率高达20%,在几乎所有其它关键指标上都有主要改进。 KLA-Tencor参数化解决方案部副总裁Joseph Laia指出,“浸没蚀刻大幅度改进了由于误差覆盖而引起的图形良品率,Archer 100系统特别解决了客户最关键的覆盖挑战,提供了支持45nm及以下光刻的技术平台。” 在浸没蚀刻方法中