电子测量中的KLA Tencor近日推出Archer 100光学叠对测量系统

KLA-Tencor, Inc.近日正式推出Archer 100光学叠对测量系统,这个45奈米的生产工具在设计上可明显增加浸润式显影与未来双图样显影技术的准确性与生产能力。在市场居领先地位的Archer平台已经过全面性的重新设计,可解决先进显影的独特挑战,准确度和TMU(总测量不确定度)的改善幅度超过30%以上,系统使用率提升多达20%,同时在MAM时间以及实际上所有其它关键规格上也有重大斩获。 KLA-Tencor Parametric Solutions Group集团副总裁Joseph Laia提到:“Archer 100系统特别将目标锁定在解决顾客最重要的叠对挑战上,提供具有能力的