显示/光电技术中的SEED器件耐压特性测量 上传者:aaaa14521 2020-11-17 20:30:07上传 PDF文件 55.99KB 热度 15次 对列阵器件的耐压特性做了测量,表为测量结果。造成个别器件耐压值偏低的原因是多方面的,多量子阱i区本底浓度偏高,会使pln结构中最大电场强度增大;材料生长的不够均匀(i区掺杂浓度不均匀)会使部分器件性能不完全一致;材料中的缺陷会导致反向漏电流增大,以及器件制备工艺引入的缺陷等都会造成击穿电压偏低。为了提高列阵器件的耐压特性,应尽可能地降低多量子阱i区本底浓度,严格控制材料生长过程,使材料尽可能地均匀一致,减小材料中的缺陷,在器件制备中严格控制和净化工艺过程。 表 耐压特性测量结果 欢迎转载,信息来源维库电子市场网(www.dzsc.com) 来源:ks99 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 aaaa14521 资源:486 粉丝:0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台,下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容!联系邮箱:server@dude6.com