用于高性能CMOS晶体管的高K 金属栅极 上传者：phs20513whup7qd 2020-08-13 17:57:40上传 PDF文件 394.82KB 热度 16次 英特尔公司为了将研制成功的高-k栅介质+金属栅极晶体管应用于微处理器芯片的规模量产,做到集成到45纳米CMOS制程中达到高性能整体的低漏电满足高可靠性要求工艺可量产和精确拷贝。 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 phs20513whup7qd 资源：471 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
