PECVD沉积SiO_2和SiN_X对p_GaN的影响.pdf
在等离子增强化学气相沉积法(PECVD)沉积SiO2 和SiNX 掩蔽层过程中, 分解等离子体中浓度较高的H 原子使Mg- 受主钝化, 同时在p
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