中空SiO2/PMA复合薄膜的制备及其阻尼性能
中空SiO2/PMA复合薄膜的制备及其阻尼性能，吕凤柱，张以河，为了制备性能优异的高分子基阻尼材料，采用模板法制备了粒径在50-70 nm的中空二氧化硅(SiO2)，用3-丙烯酸酯丙氧基三甲氧基硅(KH-570)改性
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