论文研究 栅极干法刻蚀过程中微粒子污染改善方案 .pdf
栅极干法刻蚀过程中微粒子污染改善方案，李焱辉，黄其煜，微粒子污染（Particles）是半导体制程中最关键和最基本的问题，理想的干法刻蚀制程中，刻蚀剂必须完全参与反应而形成气态生成物，最
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