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论文研究 栅极干法刻蚀过程中微粒子污染改善方案 .pdf

上传者: 2020-07-16 16:04:51上传 .PDF文件 605KB 热度 13次
栅极干法刻蚀过程中微粒子污染改善方案,李焱辉,黄其煜,微粒子污染(Particles)是半导体制程中最关键和最基本的问题,理想的干法刻蚀制程中,刻蚀剂必须完全参与反应而形成气态生成物,最
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