光学材料的干法刻蚀研究
摘 要:本文对化学材料二氧化硅的干法刻蚀工艺进行研究,运用反应离子刻蚀设备对二氧化硅进行了刻蚀实验,通过对不同工艺条件下二氧化硅的刻蚀速 率、均匀性等参数对比,最终得出了二氧化硅等同类光学材料最佳的干法刻蚀 工艺条件。
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