硅介质材料的等离子刻蚀选择比研究 上传者：zangwenjie 2020-05-22 22:24:13上传 PDF文件 400KB 热度 26次 硅介质材料的等离子刻蚀选择比研究，刘珂，陈国动，本文研究了一种基于电感耦合型高密度等离子体刻蚀设备的硅介质材料刻蚀工艺，刻蚀气体使用CHF3、CH2F2和O2的混合气体。实验数据表明� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 zangwenjie 资源：430 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
