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利用X射线光电子能谱对铁掺杂碳膜的阻变机理研究

上传者: 2020-04-29 06:38:50上传 PDF文件 1.24MB 热度 25次
利用X射线光电子能谱对铁掺杂碳膜的阻变机理研究,周家伟,张淑玮,本文在以磁控溅射方法制备的铁掺杂碳膜中观察到了可重复的,稳定性高的阻变效应,该薄膜被用于制备Pt/Al/Fe-C/Au/Ti结构的非易失性存�
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