论文研究光刻限定区域制备硅纳米线 .pdf 上传者：houguof 2019-09-14 01:40:52上传 PDF文件 607.01KB 热度 63次 光刻限定区域制备硅纳米线，于航，端木庆铎，基于金属辅助化学刻蚀机理，在光刻限定区域制备硅纳米线，实验过程中通过调整刻蚀时间来控制硅纳米线长度，通过扫描电子显微镜（ 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
