使用TCAD仿真进行离子注入实验的报告 上传者：qqmedal97797 2023-04-15 21:27:31上传 DOCX文件 7.19KB 热度 6次 TCAD仿真是一种常见的用于工艺仿真的工具。使用TCAD仿真进行离子注入实验的过程和结果。实验中我们使用P型硅片，以及不同能量、剂量的氮离子进行注入。通过TCAD仿真，我们能够获得注入后硅片的电子浓度分布、电子迁移率等重要参数。该实验可以为工艺优化提供重要指导。 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 qqmedal97797 资源：1839 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
