通过调整曝光镜头改善产品线宽均匀度的研究.pdf

自问世以来的半个多世纪, 微电子和集成电路技术可谓发展神速, 其中光刻 技术的发展起到了重要推动作用。 而作为光刻技术发展的重要指标, 不断缩小的 关键尺寸则对如何改善产品线宽均匀度(Critical Dimension Uniformity, CDU) 等关 键参数提出了更高的要求。 光刻机焦平面偏差(Total Focus Deviation, TFD) 精度就 与产品线宽均匀度 CDU 的好坏有着紧密联系, 甚至会影响到产品的最小线宽。 因 此通过提高光刻机镜头的 TFD 精度, 可以达到改善产品线宽均匀度 CDU, 提高良 率的目的。