双光束三次曝光法制作三维光子晶体模板

针对光子晶体研究领域的重点、难点问题, 分析了单色电磁波在周期性电介质中传播的偏微分方程和激光全息记录法实现光子晶体模板的理论基础。借助全息光栅理论, 设计了三维光子晶体的晶格结构, 用双光束三次曝光法制作了红光632.8 nm的三维面心立方光子晶体模板, 探讨了影响光子晶体模板成品质量的对比度、旋转精度控制、折射率改变等问题的解决思路。在制作过程中使用双光束三次曝光法, 排除了对记录光束偏振方向的调整, 达到了在制作大面积光子晶体模板中简化系统光路, 稳定系统性能的目的。