基于全湿法蚀刻技术的基于SU 8的光电开关的制造

采用全湿法刻蚀Craft.io设计并制造了具有倒肋式波导结构的高分子分散红1(DR1)/ SU-8电光(EO)开关。客体-EO EO材料DR1 / SU-8已成功合成,并详细表征了其光学性能。 DR1 / SU-8材料具有较低的加工成本,出色的光稳定性和15.4 pm / V的大EO系数。仔细设计和模拟了倒肋波导和共面波导电极的特征参数。通过全湿蚀刻Craft.io,成功制造出了优化的Mach-Zehnder干涉仪开关,其光纤间的插入损耗更低,为9.6 dB。开关上升时间和下降时间分别为322 ns和294 ns。