干法和湿法蚀刻 等离子蚀刻和湿法蚀刻的优缺点

干法和湿法蚀刻-等离子蚀刻和湿法蚀刻的优缺点 蚀刻是从材料表面去除材料的过程。蚀刻的两种主要类型是湿蚀刻和干蚀刻(例如,等离子体蚀刻)。涉及使用液体化学药品或蚀刻剂去除基板材料的蚀刻工艺称为湿蚀刻。在等离子体蚀刻工艺中,也称为干蚀刻,使用等离子体或蚀刻气体来去除衬底材料。干蚀刻会产生气态产物,这些产物应扩散到大量气体中并通过真空系统排出。干蚀刻有三种类型(例如等离子蚀刻):化学反应(通过使用反应性等离子体或气体),物理去除(通常通过动量传递)以及化学反应和物理去除的组合。另一方面,湿蚀刻仅是化学过程。