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用湿化学蚀刻法制造的GaAlAs短腔激光器

上传者: 2021-04-04 06:25:46上传 PDF文件 1.57MB 热度 11次
使用化学蚀刻新工艺,已制造出阈电流为30亳安的GaAlAs短腔条形激光器,该工艺采用了多层金属掩模。这种激光器长为23微米,宽为12微米,在蚀刻面上没有反射涂层。在脉冲条件下获得了准单模运转。
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